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PLD脉冲激光溅射沉积设备 该PLD脉冲激光溅射沉积系列设备主要用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料，尤其适用于生长高熔点、...
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离子源电子束蒸发镀膜仪 该电子束蒸发方式镀膜仪，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其...
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高通量超声波热解喷涂 高通量超声波热解喷涂是通过在加热的表面上喷涂溶液来沉积薄膜的过程，在该表面上，成分发生反应以形成化合物.用于电池电极和钙...
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真空热解喷涂 喷雾热解制膜法，是将溶液雾化后喷涂到加热的基座上，然后再基底上得到想要的物质结构
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超声波热解喷涂机 此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物，而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太阳能电池中...
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台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜... CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜...
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双靶直流磁控溅射镀膜仪 双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用...
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单靶直流磁控溅射镀膜仪 单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，...