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三靶磁控溅射仪的的优点与安装条件

日期:2022-11-30 10:33
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摘要:
    三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。三靶磁控溅射配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

安装条件

    本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

    1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

    2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

    3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带6mm双卡套接头)及减压阀

    4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

    5、通风装置:需要

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